您好,欢迎您访问海南科研设施与仪器共享服务平台! 咨询电话:0898-66168173     注册 / 登录

原子层沉积系统 100元/小时

仪器型号:PEALD    仪器产地:中国

服务内容:原子层沉积技术基于表面自限制、自饱和吸附反应,具有表面控制性,所制备薄膜具有优异的三维共形性、大面积的均匀性等特点,适应于复杂高深宽比衬底表面沉积制膜,同时还能保证精确的亚单层膜厚控制。因此,原子层沉积技术在微电子、能源、信息等领域应用广泛。

仪器编码:1900521S

服务机构: 海南大学

机构地址:海南省海口市美兰区海南省海口市美兰区

委托协议: 暂未上传

仪器型号:PEALD

产地国别:无

运行状态:正常

造厂商:嘉兴科民

仪器分类:其他

主要技术指标

技术参数

1、原子层沉积反应腔室 1.1 腔室材质:6061镁铝阳极氧化沉积腔室,内表面阳极氧化; 1.2 真空漏率<5×10-7 Pa•L/S,0.3um以上颗粒度增加值<120颗; 1.3 样品台:适用于6寸圆片并兼容6寸以下尺寸,加热温度RT-400℃, 控制精度±0.5℃,样品台设有保护片托; 1.4控制系统:奥地利B&R PLC+工控机沉积自动控制系统,可处理100us级别的的信号循环周期,满足高精度ALD控制需求,搭配自主研发的沉积控制软件系统,可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数;(添加的数据参数要求) 1.5沉积模式:沉积平面样品的连续模式、沉积高深宽比样品及三维材料的停流模式; 1.6外挂式触摸屏,操作便捷; 2、前驱体源系统 2.1 3路标准加热液态前驱体源,配置swagelok高温快速ALD阀(响应时间<10ms)、手动阀、50ml不锈钢源瓶,源瓶及管路加热温度RT-200℃,控制精度±1℃,可用于常规液态前驱体源; 2.2 1路常温水源,配置swagelok快速ALD阀(响应时间<10ms)、手动阀、200ml专用水源瓶;

功能/应用范围

原子层沉积技术基于表面自限制、自饱和吸附反应,具有表面控制性,所制备薄膜具有优异的三维共形性、大面积的均匀性等特点,适应于复杂高深宽比衬底表面沉积制膜,同时还能保证精确的亚单层膜厚控制。因此,原子层沉积技术在微电子、能源、信息等领域应用广泛。

仪器服务信息

共享模式:外部共享

对外开放共享规定:1、工作日送样测试,具体可预约时间、收费标准详见海南大学大型仪器共享服务平台系统。 2、自备源瓶,本仪器不接收放射性样品的测试。

收费标准:100元/小时(源瓶自备)

仪器安放地址:海南省海口市美兰区南海海洋资源利用国家重点实验室 实验设备公共平台220室

仪器联系人:吴云娣

联系电话:19989664682

电子邮箱: wuyundi@hainanu.edu.cn

用户评价

在线人数:51688    访客统计:85160

版权所有:海南省科技信息研究所  海南大型科学仪器协作共用管理办公室

备案号:琼ICP备2020004339号-2

地址:海南大学分析测试中心111室(旅游学院广场对面)

电话(传真):0898-66168173    邮箱: hnsiss@163com

技术支持:海南易瑞可高新技术开发有限公司

扫码加入QQ群

扫码关注公众号