
原子层沉积系统 100元/小时
仪器型号:PEALD 仪器产地:中国
服务内容:原子层沉积技术基于表面自限制、自饱和吸附反应,具有表面控制性,所制备薄膜具有优异的三维共形性、大面积的均匀性等特点,适应于复杂高深宽比衬底表面沉积制膜,同时还能保证精确的亚单层膜厚控制。因此,原子层沉积技术在微电子、能源、信息等领域应用广泛。
仪器型号:PEALD
产地国别:无
运行状态:正常
造厂商:嘉兴科民
仪器分类:其他
主要技术指标
技术参数
1、原子层沉积反应腔室 1.1 腔室材质:6061镁铝阳极氧化沉积腔室,内表面阳极氧化; 1.2 真空漏率<5×10-7 Pa•L/S,0.3um以上颗粒度增加值<120颗; 1.3 样品台:适用于6寸圆片并兼容6寸以下尺寸,加热温度RT-400℃, 控制精度±0.5℃,样品台设有保护片托; 1.4控制系统:奥地利B&R PLC+工控机沉积自动控制系统,可处理100us级别的的信号循环周期,满足高精度ALD控制需求,搭配自主研发的沉积控制软件系统,可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数;(添加的数据参数要求) 1.5沉积模式:沉积平面样品的连续模式、沉积高深宽比样品及三维材料的停流模式; 1.6外挂式触摸屏,操作便捷; 2、前驱体源系统 2.1 3路标准加热液态前驱体源,配置swagelok高温快速ALD阀(响应时间<10ms)、手动阀、50ml不锈钢源瓶,源瓶及管路加热温度RT-200℃,控制精度±1℃,可用于常规液态前驱体源; 2.2 1路常温水源,配置swagelok快速ALD阀(响应时间<10ms)、手动阀、200ml专用水源瓶;
功能/应用范围
原子层沉积技术基于表面自限制、自饱和吸附反应,具有表面控制性,所制备薄膜具有优异的三维共形性、大面积的均匀性等特点,适应于复杂高深宽比衬底表面沉积制膜,同时还能保证精确的亚单层膜厚控制。因此,原子层沉积技术在微电子、能源、信息等领域应用广泛。
仪器服务信息
共享模式:外部共享
对外开放共享规定:1、工作日送样测试,具体可预约时间、收费标准详见海南大学大型仪器共享服务平台系统。 2、自备源瓶,本仪器不接收放射性样品的测试。
收费标准:100元/小时(源瓶自备)
仪器安放地址:海南省海口市美兰区南海海洋资源利用国家重点实验室 实验设备公共平台220室
仪器联系人:吴云娣
联系电话:19989664682
电子邮箱: wuyundi@hainanu.edu.cn
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